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ÖNORM EN 15991
Testing of ceramic raw materials and ceramic materials - Direct determination of mass fractions of impurities in powders and granules of silicon carbide by inductively coupled plasma optical emission spectrometry with electrothermal vaporisation (ETV-ICP-OES)
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STANDARD published on 1.11.2025
The information about the standard:
Designation standards: ÖNORM EN 15991
Publication date standards: 1.11.2025
SKU: NS-1246508
The number of pages: 32
Approximate weight : 96 g (0.21 lbs)
Country: Austrian technische Norm
Category: Technical standards ÖNORM
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Annotation of standard text ÖNORM EN 15991 :
Dieses Dokument legt ein Verfahren zur Bestimmung der Massenanteile der Elemente Al, Ca, Cr, Cu, Fe, Mg, Ni, Ti, V und Zr in pulver- und kornförmigem Siliciumcarbid fest. Dieses Prüfverfahren gilt in Abhängigkeit von Element, Emissionslinien, Plasmabedingungen und Probenmasse für Massenanteile der o. g. Spurenverunreinigungen von etwa 0,1 mg/kg bis etwa 1 000 mg/kg, nach Evaluierung auch von 0,001 mg/kg bis etwa 5 000 mg/kg. ANMERKUNG 1 In der Regel gilt für die optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma und elektrothermischer Verdampfung (ETV-ICP-OES) ein linearer Arbeitsbereich von bis zu vier Größenordnungen. Dieser Bereich kann für die einzelnen Elemente durch Änderung der Probenmasse oder durch die Auswahl verschieden empfindlicher Emissionslinien erweitert werden. Nach entsprechender Prüfung ist dieses Dokument auch auf weitere metallische Elemente (mit Ausnahme von Rb und Cs) und einige nichtmetallische Verunreinigungen (wie z. B. P und S) und andere verwandte nichtmetallische pulver- und kornförmige Werkstoffe, wie z. B. Carbide, Nitride, Graphit, Ruß, Koks, Kohle, sowie weiterer oxidischer Werkstoffe anwendbar (siehe [1], [4], [5], [6], [7], [8], [9] und [10]). ANMERKUNG 2 Es gibt positive Erfahrungen zu Werkstoffen, wie z. B. Graphit, Borcarbid (B4C), Siliciumnitrid (Si3N4), Bornitrid (BN) und verschiedenen Metalloxiden sowie zur Bestimmung von P und S in einigen dieser Werkstoffe.
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